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10 月 2 日讯息就去射，康宁公司今天发布了新一代 Extreme ULE 玻璃材料，康宁将于 9 月 30 日至 10 月 3 日在加州蒙特雷举行的 SPIE 光掩模技巧 + 极紫外光刻会议上展示这种玻璃和其他半导体材料。 据先容，这种新玻璃材料可匡助芯片制造商转换芯片筹备的模板“光掩模”，可承受最高强度的极紫外光（EUV）光刻，具有接近 0 的延迟特质，可适用于 EUV 光掩模和光刻镜，关于大范畴分娩发轫进、最具资本效益的微芯片至关进攻。 妹妹自慰 注：光掩模是微纳加工技巧常用的光刻工艺所使用的图形母版就去射，可在透明玻璃板名义的遮光膜上蚀刻加工十分轻飘的电路图案，从而欺诈光刻蚀技巧将图案复刻到晶圆上。 康宁暗示，EUV 光刻需要制造商使用发轫进的光掩模来完成图案化和印刷流程，而这个流程需要极点的热领路性和均匀的玻璃材料，以确保已毕一致的制造性能。 康宁高档光学副总裁兼总司理 Claude Echahamian 暗示，“Extreme ULE 玻璃可已毕更高功率的 EUV 制造以及更高的良率，扩大康宁在握续追求摩尔定律方面的要津作用。” 着手：https://www.top168.com/news/show-149254.html就去射 康宁玻璃蒙特雷康宁公司紫外光发布于：北京市
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